В новом технологическом процессе скорость получения волокна удалось значительно увеличить за счет оптимизации исходной структуры и применения двухстадийного процесса вытягивания. Ученые изготовили волокна для работы в обычном диапазоне телекоммуникационных сетей близ 1550 нм и для ряда других длин волн. Но несмотря на рекордные результаты новые волокна пока не могут конкурировать с обычными по затуханию. Их можно использовать лишь для передачи ультракоротких импульсов и мощных потоков излучения. ГА
Маски долой
Интересное цифровое микрозеркальное устройство продемонстрировала корпорация Nikon на очередной Международной конференции IEEE по микроэлектромеханическим системам (MEMS). Матрица, предназначенная для новой технологии массового производства полупроводниковых устройств, бьет все рекорды скорости.
В Nikon предполагают, что в фотолитографическом процессе следующего поколения слой фоточувствительного материала на полупроводниковой пластине будет засвечиваться не через теневую маску, а непосредственно, отражаясь от микромеханических зеркал (вроде тех, что сейчас используются в проекторах). Эта технология обещает существенно ускорить и удешевить массовое производство некоторых полупроводниковых приборов, остается только создать достаточно быстрые микромеханические зеркала с приемлемым разрешением и приемлемой суммарной площадью.
Новое устройство усеяно расположенными встык ромбиками - микрозеркалами из алюминия площадью по 16 кв. мкм. Каждый ромбик соединен с гибкой верхней пластиной