Торжественный старт нового «спутника NASA» был приурочен к прошедшей в начале апреля в Анахайме конференции Национальной ассоциации преподавателей. По мнению делегатов внушительного «педсовета», прошедшего под амбициозным лозунгом «Навстречу золотому веку в американском образовании», нынешний проект заслужил твердую пятерку. — Д.К.
Кремний в розлив
Японские компании Seiko Epson и JCR совместно разработали новую технологию изготовления тонкопленочных транзисторов, которая обещает значительно снизить стоимость производства TFT-дисплеев. В настоящее время в его основе лежит процесс химического осаждения паров, известный под аббревиатурой CVD (chemical vapor deposition). Высокочистый кремний подвергается возгонке в вакууме, после чего его пары осаждаются на подходящую матрицу, например, подложку из пластика. В результате ее поверхность покрывается твердой кремниевой пленкой, на которой посредством фотолитографии формируется микросхема. Эта технология требует высокотемпературной вакуумной аппаратуры и поэтому обходится весьма недешево.
Новый метод, созданный под руководством Масахиро Фурусава (Masahiro Furusava), основан на применении не газообразного, а жидкого кремния. Сырьем для его получения служит жидкое при комнатной температуре силиконоводородное соединение циклопентасилан, молекула которого содержит кольцо из пяти атомов кремния. При облучении ультрафиолетом такие кольца разрываются и образуют цепочки, которые соединяются друг с другом в цепи большей длины.